蝕刻解決方案

太陽電池量產的創新蝕刻概念

Merck為太陽光電產業開發出類型十分多樣的客製蝕刻材料, 讓製程簡化又環保、改善了效率且讓生產速度變得更快。

若太陽電池上的功能層需要蝕刻時, 照相平版印刷、雷射剝離或電漿蝕刻等交互式成型法(alternative patterning)都有特定缺點例如: 不是較為昂貴就是可能會因為基材表面的顆粒生成而引起損壞。Merck以獨特的isishape SolarEtch^®概念所提供的絲網印刷和可塗佈蝕刻材料讓成型過程更為簡單、快速又有效。

您可以取得的優勢有: 蝕刻快速且材料消耗量低

只需要簡簡單單的4步驟製程, Merck的isishape^®蝕刻材料允許使用標準印刷、蝕刻和潤洗設備來進行大規模低成本量產。isishape^®的概念可以帶來低的材料消耗量以及快速的蝕刻, 而且有效控制膠的塗抹行為。藉由替代傳統生產科技的方式, isishape^®能讓矽晶太陽電池的電性參數更好且選擇放光設計更加容易。此外, isishape^®產品的使用相當環保, 允許使用簡易的清洗方式而無須使用會讓潤洗水含有極低有機濃度的清潔劑(生物化學需氧量, 簡稱BOD/COD)。

更好的應用替代方案

isishape SolarEtch^®產品可用來進行選擇性抗反射塗佈以及太陽電池表層的鈍化。根據領導級研發機構的研究, isishape^®的概念特別建議在新世代高效率太陽電池的生產上使用。

這項科技如何運作?

isishape^®幾乎可以用來蝕刻所有類型的透明導電氧化層(例如ITO或ZnO)、抗反射層或擴散屏障(例如SiO2或SiNx)、半導體(例如a-Si或poly-Si)以及金屬(例如鋁)。而isishape^®的創新概念更造就出一種由四道步驟所構成的簡單蝕刻製程, 亦即: 在含有待移除物質的基材區域上印刷蝕刻膠、加熱基材觸發蝕刻反應、在去離子水中潤洗以去除基材上的待移除物質、乾燥基材。目前isishape®所使用的材料已經通過證明, 在各類針對不同應用的蝕刻系統上, 它們可適用於各種量產條件。

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